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ASML公布制造1nm的最强光刻机
11月中旬，与ASML（阿斯麦）合作研发光刻机的半导体研究机构IMEC公布了3nm及以下制程的在微缩层面技术细节。而就目前来说，ASML对于3、2、1nm都做了非常清晰的规划，并且也公布了1nm的很多细节，从光刻机的体积来看，确实小了很多。 其实目前三星、台积电都已经引入了NA=0.33的EUV曝光设备，ASML已经完成了0.55NA曝光设备的基本设计（即NXE：5000系列），预计在2022年实现商业化，也就是说1nm的时代已经不远了。 |
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